主讲人：鞠焕鑫研究员

时间：9月13日下午14:00

地点：丽湖校区守正楼212会议室

报告人简介：

鞠焕鑫，PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司首席科学家，国家同步辐射实验室特任研究员。鞠焕鑫分别于2009年和2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位。长期从事表面分析技术方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究，在Science, Nature，Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater, Adv Funct Mater等期刊发表学术论文百余篇；曾主持/参与多个国家级科研项目。

讲座摘要：

表面分析技术已经广泛应用于新材料和器件的基础科学研究以及高科技产业中，对深入理解其中的基本物理化学性质、表界面特性和电子结构等关键科学问题提供了强有力的工具。面对新材料/器件中的基础研究和技术创新，先进表征分析技术的发展和应用具有重要的意义。

本报告将针对科学研究中对表面分析技术的需求，从空间分辨、深度分辨和原位表征多个维度出发，介绍多种表面分析技术（XPS、UPS、LEIPS、AES和TOF-SIMS等）最新发展以及在材料组分、化学态、能级电子结构（价带和导带）和分子结构信息等研究中的应用，以及，样品制备和数据处理等内容，欢迎大家交流和讨论。

1.      X射线光电子能谱（XPS）是广泛使用的表面分析技术，可以提供材料表面的组分和化学态信息，结合微区XPS可以获得元素和化学态的空间分布影像（mapping），结合离子溅射可以进行深度剖（depth profile），为表界面化学作用提供重要实验数据；

2.      飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）具有超高检出限（ppm-ppb）、高质量分辨和高空间分辨能力，可以提供表面离子信息和空间分布信息，以及获取掺杂组分的三维（3D）分布，为表界面扩散和缺陷钝化等研究提供关键数据；

3.      俄歇电子能谱（AES）利用场发射电子束激发元素俄歇电子，可以提供样品表面（<5nm）元素在纳米级别空间尺度的分布信息，为纳米/亚微米尺度样品的表面研究提供重要数据。

欢迎有兴趣的师生参加！